解説・著書・特許
総説・解説
- Alの陽極酸化によるメンブレンフィルターの作製
柳下 崇,アルトピア, 4, 23 (2023).
- Alの陽極酸化による微細構造形成と機能化に関する最新動向(総説)
柳下 崇,表面技術, 74, 170 (2023).
- アノード酸化ポーラスアルミナにもとづいた光機能デバイス形成
近藤敏彰,柳下 崇,益田秀樹,表面技術, 72, 206 (2021).
- 高規則性ナノスルーホールメンブレンの高効率形成
柳下 崇,近藤敏彰,益田秀樹,表面技術, 70, 16 (2019).
- 高規則性アノード酸化ポーラスアルミナの形成と応用展開
柳下 崇,益田秀樹,機能材料, 39, 4 (2019).
- 電気化学プロセスにもとづくナノポーラスセラミック
柳下 崇,近藤敏彰,益田秀樹,セラミックス, 53, 106 (2018).
- 細孔配列規則性の高いポーラスアルミナスルーホールメンブレンの作製
柳下 崇,近藤敏彰,益田秀樹,ケミカルエンジニアリング, 63, 51 (2018).
- 高規則性ナノポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセスによるナノ規則表面の形成と機能的応用
柳下 崇,近藤敏彰,益田秀樹,機能材料, 37, 16 (2017).
- ナノホールアレイにもとづいた金属ナノ構造配列の形成とプラズモンデバイスへの応用
近藤敏彰,柳下 崇,益田秀樹,ケミカルエンジニアリング, 62, 41 (2017).
- 高規則性アノード酸化ポーラスアルミナのナノ機能化研究の新展開
柳下 崇,近藤敏彰,益田秀樹,アルトピア, 47, 15 (2017).
- 高規則性アノード酸化ポーラスアルミナにおける最近の機能化研究
柳下 崇,近藤敏彰,益田秀樹,表面技術, 67, 538 (2016).
- アルミナナノホールアレーの新展開
益田秀樹,柳下 崇,近藤敏彰,電気化学, 83, 106 (2015).
- 陽極酸化ポーラスアルミアの機能化に関する新展開
益田秀樹,柳下 崇,近藤敏彰,表面技術, 65, 414 (2014).
- 高規則性ポーラスアルミナの作製と応用
柳下 崇,益田秀樹,静電気学会誌, 38, 243 (2014).
- 高規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセス
柳下 崇,益田秀樹,あるとぴあ, 10, 5 (2013).
- 高規則性アルミナナノホールアレーを用いたナノインプリントプロセスにもとづく反射防止構造の形成
柳下 崇,益田秀樹, 光技術コンタクト, 50, 20 (2012).
- 高規則性ポーラスアルミナを用いた膜乳化プロセスによる単分散微粒子の形成
柳下 崇,益田秀樹,C&I Commun, 36, 10(2011).
- 高規則性陽極酸化ポーラスアルミナによる膜乳化
柳下 崇,高分子,60,395 (2011).
- 規則ポーラス構造によるナノ・マイクロ空間の形成と応用
益田秀樹,柳下 崇,近藤敏彰,西尾和之,触媒, 52, 190 (2010).
- 陽極酸化プロセスによるアルミナナノホールアレーの作成と表面ナノ構造制御への応用
益田秀樹,柳下 崇,近藤敏彰,西尾和之,真空, 52, 207 (2009).
- 規則性ポーラスアルミナの作製と機能化
益田秀樹,柳下 崇,近藤敏彰,西尾和之,ゼオライト, 26, 45 (2009).
- 陽極酸化プロセスを用いた光電場増強場の形成
益田秀樹,近藤敏彰,柳下 崇,西尾和之,光学, 38, 456 (2009).
- ポーラスアルミナに基づく金属ナノ微粒子規則配列の形成とプラズモンデバイスへの応用
近藤敏彰,柳下 崇,西尾和之,益田秀樹,機能材料, 11, 27 (2009).
- アルミニウム酸化物のポーラス構造制御と応用
益田秀樹,柳下 崇,西尾和之,機能材料,27,6 (2007).
- アルミナナノホールアレーにもとづくナノ粒子の形成
柳下 崇,西尾和之,益田秀樹, 工業材料,52,10 (2004).
- 陽極酸化ポーラスアルミナにおける細孔ナノ形状制御と応用
益田秀樹,柳下 崇,西尾和之, 表面科学,25,260 (2004).
著書
- 柳下 崇(分担執筆)
6.アルミニウムの表面処理
アルミニウム合金の基礎と成形技術,コロナ社(2024)
- 柳下 崇(分担執筆)
陽極酸化によるナノインプリント用モールドの作製と無反射レンズ形成への応用
ナノインプリント -次世代微細加工技術の最先端-,シーエムシー出版(2024)
- 柳下 崇(分担執筆)
高規則性ポーラスアルミナを用いた膜乳化プロセスによる単分散微粒子の創製と機能化
高分子微粒子の最新技術動向,シーエムシー出版(2022)
- 柳下 崇(分担執筆)
ナノインプリントプロセスによるナノ・マイクロ階層構造の形成と撥水特性評価
撥水・撥油・親水性材料の開発動向,シーエムシー出版(2021)
- 柳下 崇,益田秀樹(分担執筆)
陽極酸化ポーラスアルミナを用いたナノインプリント
ナノインプリント技術ハンドブック,オーム社(2019)
- 近藤敏彰,柳下 崇,益田秀樹(分担執筆)
カントレビュー プラズモンと光圧が導くナノ物質化学
第7章「大面積規則ナノ構造体の形成とプラズモニクスデバイスへの応用,化学同人 (2019)
- Hideki Masuda, Takashi Yanagishita, and Kondo Toshiaki(分担執筆)
Encyclopedia of Interfacial Chemistry 219598th Edtion, Elsevier (2018)
- 柳下 崇,近藤敏彰,益田秀樹(分担)
ポーラスアルミナを用いたナノインプリントによる撥水表面への応用
防汚・防水・防曇性向上のための材料とコーティング,評価・応用,情報技術協会 (2018)
- 柳下 崇,益田秀樹(分担執筆)
高規則性ポーラスアルミナを用いたモスアイ型反射防止構造の形成技術
光学樹脂の屈折率,複屈折率制御技術と応用事例,技術情報協会 (2017)
- 柳下 崇,益田秀樹(分担執筆)
第11節 高規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリント法による反射防止構造形成
「光」の制御技術とその応用 事例集,術情報協会(2014)
- 益田秀樹,柳下 崇(分担執筆)
モスアイ型反射防止膜における微細構造形成と大面積化
光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御,技術情報協会 (2013)
- 柳下 崇,益田秀樹(分担執筆)
第40節モスアイ型無反射フィルムの作製とタッチパネル・スマートフォンへの応用
スマートフォン・タッチパネル部材の最新技術便覧,技術情報協会(2013)
- 柳下 崇,益田秀樹 (分担執筆)
章6節高規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセスにもとづくナノ規則構造の形成と光学デバイスへの応用
ナノインプリント/ナノ加工技術とオプトテクノロジー,情報機構(2012)
- 柳下 崇,近藤敏彰,益田秀樹(分担執筆)
第3章2節陽極酸化ポーラスアルミナにもとづくナノインプリント用モールドの作製と光学素子への応用
ナノ構造光学素子開発の最前線,シーエムシー出版 (2011)
- 柳下 崇,益田秀樹 (分担執筆)
第3章3節高規則性ポーラスアルミナを用いたモスアイ構造型反射防止構造の作製
タッチパネル開発の最前線,情報機構 (2011)
- 柳下 崇,益田秀樹(分担執筆)
実用化が急がれる機能材料の3.光の反射が起こらないモスアイ構造
新・材料化学の最前線,ブルーバックス,講談社(2010)
- 益田秀樹,柳下 崇(分担執筆)
第11章 ナノインプリント用モールド技術,4自己形成ナノモールド
ナノインプリントの最新技術と装置・材料・応用,フロンティア出版 (2008)
特許
- 「ポーラスアルミナ膜、ポーラスアルミナ板、およびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2024年7月22日,特願2024-117194
- 「接着構造体」
柳下 崇 他
出願日:2023年9月14日,特願2023-149147
- 「接着構造体、および、接着構造体の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2023年9月14日,特願2023-149145
- 「細胞培養用容器、細胞培養用容器の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2023年9月1日,特願2023-141974
- 「アルミナスルーホールメンブレンおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2022年8月29日,特願2022-136256
- 「抗菌性を有する金属酸化物粒子及びその製造方法、抗菌材及びその製造方法、塗料、成形体、繊維、並びに抗菌方法」
柳下 崇 他
出願日:2022年3月22日,特願2022-046056
- 「モールドの製造方法及び物品の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2021年12月23日,特願2021-209903
- 「抗菌シート及びその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2021年6月23日,特願2021-104180
- 「抗菌シート及びその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2021年6月23日,特願2021-104179
- 「ポーラスアルミナ板、およびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2020年9月25日,特願2020-161290
- 「二次電池用電解液および二次電池」
柳下 崇 他
出願日:2020年2月6日,特願2020-19145
- 「陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法」
益田 秀樹,柳下 崇
出願日:2016年6月28日,特願2016-127396
登録番号:特許-6760640
- 「粒子画像流速測定装置、流速測定方法、及び反射防止構造体」
中川 雅樹,益田 秀樹,柳下 崇
出願日:2016年3月15日,特願2016-51688
登録番号:特許-6422910
- 「ピラーアレー構造体の製造方法」
益田 秀樹,柳下 崇,早川 友浩
出願日:2016年3月7日,特願2016-134834
登録番号:特許-6727046
- 「異方性導電膜の製造方法及び異方性導電膜」
益田 秀樹,柳下 崇,早川 友浩,柿沼 文一,早川 俊昭
出願日:2016年3月7日,特願2016-43549
登録番号:特許-6797535(登録日:2020年11月20日)
- 「無機系単分散球形微粒子、無機系単分散球形微粒子の製造方法、電池用電極並びに電池」
柳下 崇 他
出願日:2015年7月29日,特願2015-150180
- 「鋳型及び樹脂成形品」
柳下 崇 他
出願日:2015年4月22日,特願2015-087803
- 「ファイバー状構造体製造用ノズル及びファイバー状構造体のファイバーバンドルの製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2014年5月7日,特願2014-095931
- 「スタンパの製造方法、成形体の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2014年4月2日,特願2014-076506
- 「陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法、および微細凹凸構造を表面に有する成形体の製造方法、並びに微細凹凸構造を表面に有する成形体」
柳下 崇 他
出願日:2013年12月9日,特願2013-557688
- 「アルミナスルーホールメンブレンおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2013年3月26日,特願2014-528013
- 「陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2013年8月13日,特願2013-168079
- 「多孔性高分子膜の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2013年7月22日,特願2013-151540
- 「複数本のファイバー状構造体からなる束の製造方法、及び複数本の炭素繊維からなる束の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2011年8月19日,特願2011-179569
- 「インプリント用ロール状モールドおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2012年5月14日,特願2012-110771
- 「多孔性微粒子の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2011年2月7日,特願2011-024012
- 「基板の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年8月27日,特願2010-190985
- 「多孔性微粒子およびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年8月30日,特願2010-192559
- 「表面に微細凹凸パターンを有する構造体およびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年8月27日,特願2010-191001
- 「樹脂シート状物およびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年4月19日,特願2010-096086
- 「熱インプリント用モールドおよびその製造方法並びにそのモールドを用いた樹脂材の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年3月29日,特願2010-074455
- 「表面凹凸パターンを有する樹脂材の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年3月17日,特願2010-060844
- 「低反射導電性表面を有する材料およびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年2月18日,特願2010-033678
- 「多孔質構造材料の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年2月15日,特願2010-030111
- 「微粒子の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年2月15日,特願2010-030110
- 「陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法、装置、その方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として製造された成形体、反射防止物品および撥水性物品」
柳下 崇 他
出願日:2010年9月27日,特願2010-215100
- 「分離用デバイスおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2009年3月26日,特願2009-076368
- 「質量分析法に用いられる試料ターゲットおよびその製造方法、並びに当該試料ターゲットを用いた質量分析装置」
柳下 崇 他
出願日:2009年1月28日,特願2009-017027
- 「陽極酸化ポーラスアルミナおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2010年4月27日,特願2010-101917
- 「金属ナノ構造体アレーの製造方法および複合材料の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2008年12月26日,特願2008-333665
- 「表面に規則的な凹凸パターンを有する炭素材およびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2008年8月22日,特願2008-214631
- 「陽極酸化ポーラスアルミナおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2008年4月18日,特願2008-109293
- 「質量分析法に用いられる試料ターゲットおよびその製造方法、並びに当該試料ターゲットを用いた質量分析装置」
柳下 崇 他
出願日:2008年3月25日,特願2008-078976
- 「表面に微細構造を有するアルミニウムの製造方法およびポーラスアルミナの製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2008年3月18日,特願2008-068667
- 「微細表面パターンを有する無機系材料の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2008年3月18日,特願2008-068666
- 「ファイバー状構造体の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2008年2月1日,特願2008-022666
- 「凝集粒子の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2008年2月1日,特願2008-022668
- 「膜乳化法により形成される単分散エマルションおよびその製造方法並びにその方法を用いたポリマー微粒子およびコンポジット粒子の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2008年2月1日,特願2008-022667
- 「インプリント用モールドの製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2007年11月13日,特願2007-293989
- 「表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2007年10月30日,特願2007-281447
- 「スタンパとその製造方法、成形体の製造方法、およびスタンパ用のアルミニウム原型」
柳下 崇 他
出願日:2008年10月24日,特願2008-554556
- 「インプリント用モールドおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2007年8月24日,特願2007-218240
- 「インプリント用モールドおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2007年3月16日,特願2007-068265
- 「粒子の製造方法およびその方法により製造された粒子」
柳下 崇 他
出願日:2006年8月21日,特願2006-224123
- 「貫通細孔を有するポーラスアルミナおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2006年8月15日,特願2006-221599
- 「鋳型、鋳型の製造方法及びシートの製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2007年6月28日,特願2007-534399
- 「質量分析法に用いられる試料ターゲットおよびその製造方法、並びに当該試料ターゲットを用いた質量分析装置」
柳下 崇 他
出願日:2006年4月28日,特願2007-540878
- 「反射防止膜の製造方法及び反射防止膜作製用スタンパの製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2005年9月21日,特願2005-273561
- 「多孔性高分子膜およびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2006年8月25日,特願2006-554396
- 「ナノホールアレーとその製造方法および複合材料とその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2004年8月31日,特願2004-251642
- 「ナノピラー構造体とその製造方法および分離用デバイスとその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2004年8月30日,特願2004-249674
- 「陽極酸化ポーラスアルミナおよびその製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2004年2月17日,特願2004-039896
- 「ホールアレーの製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2003年9月3日,特願2003-311363
- 「アルミナチューブ及びアルミナチューブ被覆ワイヤーの製造方法」
柳下 崇 他
出願日:2003年3月20日,特願2003-078673